真空氢气炉

来源: | 发布时间:2021-10-30 |

真空氢气炉设计原理

真空氢气炉主要用于金属及非金属材料的真空氢气还原,硬质合金、陶瓷、粉末冶金材料的真空/气氛高温烧结处理,软磁材料的真空氢气退火以及真空钎焊、真空高温回火等工艺。设备设计温度在1600℃以下(由客户提供)。
VHS系列单室真空气淬炉采用前开门装料型式,由真空炉体、炉胆、真空系统、氢气还原系统、快速充气系统(氮气)、风冷系统、温度和真空控制系统、加热电源、水冷系统和炉外装料车等部分组成。
优点:本设备糅合了国际前进技术,采用负压脉冲充氢气和恒压流动充氢气烧结的新方法,达到即节约气源又使材料充分还原提纯的目的,同时又使设备具有突出的安全性能。

真空氢气炉技术参数

最高炉温:1600℃          炉温均匀性:<±5℃,   极限真空度:10-1/10-4Pa可选
压升率: 0.65Pa/h,       炉胆:石墨/钼可选

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