光刻机
来源： | 发布时间：2021-10-30 |
什么是光刻机
光刻机(紫外曝光机)（Mask Aligner) 又被称为：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
光刻机用途
主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。 由于本机找平机构先进，找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。
光刻机分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
C 自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要，恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。
单面光刻机主要技术指标
1、适用于4″、3″、2″基片，基片厚度≤1.5mm 。
2、具有相对应的版夹盘，□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。
3、调密着真空度，能实现硬接触、软接触和微力接触曝光。
4、采用鹰眼曝光头，光的不均匀性≤±3%，曝光时间0～9999.9秒可调。
5、具有预定位靠尺：利用基片切边进行定位，定位精度≤1微米 。
6、具有双工作承片台，利用曝光时间，进行卸片、上片工作。
双面光刻机主要技术指标
双面对准，单面曝光（适用于6″、5″、4″、3″、2″基片）
双面对准，双面曝光（适用于6″、5″、4″、3″、2″基片）
1、适用于6″、5″、4″、3″、2″基片，基片厚度≤1.5mm 。
2、具有相对应的版夹盘，，□7″×7″、□6″×6″/□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。
3、调密着真空度，能实现硬接触、软接触和微力接触曝光。
4、采用鹰眼曝光头，光的不均匀性≤±3%，曝光时间0～9999.9秒可调。
5、具有预定位靠尺：利用基片切边进行定位，定位精度≤1微米 。
6、具有双工作承片台，利用曝光时间，进行卸片、上片工作。
光刻机紫外光源
曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。
常见光源分为:
紫外光（UV），g线：436nm;i线：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm
极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
对光源系统的要求
a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高，因为衍射现象会更严重。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；
c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]
常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。
对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。
曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。
光刻机生产厂家供应信息
厂家名称：成都新德南光机械设备有限公司.
厂家地址：四川省成都市武侯区逸都路29号.
厂家联系人：文宽.
厂家联系电话：13540650355。
该厂家位于四川成都，多地有驻外办事处，可面向全国各个企业提供光刻机相关产品的定制和维修。
m, ArF 准分子激光：193 nm
极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
对光源系统的要求
a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高，因为衍射现象会更严重。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；
c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]
常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。
对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。
曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。
光刻机生产厂家供应信息
厂家名称：成都新德南光机械设备有限公司.
厂家地址：四川省成都市武侯区逸都路29号.
厂家联系人：文宽.
厂家联系电话：13540650355。
该厂家位于四川成都，多地有驻外办事处，可面向全国各个企业提供光刻机相关产品的定制和维修。
